IBM hat heute bekannt gegeben, dass eigene Forscher einen neuen Prozess für die Herstellung von Schaltkreisen gefunden haben. Mit dem neuen Verfahren können 30 Nanometer Chips hergestellt werden, während der aktuelle Industriestandard bei 90 Nanometern liegt.
Damit scheint es möglich zu sein, die Suche nach grundsätzlich anderen Herstellungsverfahren für Schaltkreise wieder einmal auf die etwas längere Bank zu schieben. Mehr über das "optische Lithographie" genannte Verfahren gibts direkt bei IBM.
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